微弧氧化工藝及技術特點：

微弧氧化是輕金屬在其特定的電解液及電場條件下，原位生長陶瓷膜的新技術。其原理是將Al、Mg、Ti等輕金屬或其合金置于電解質水溶液中作為陽極，利用電化學方法在該材料的表面產生火花放電斑點，在熱化學、等離子體化學和電化學的共同作用下，獲得金屬氧化物陶瓷層的一種表面改性技術。

微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜，與基體呈冶金結合，膜層致密，具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達到600-1500HV(膜層厚度20-50μm），耐磨性能優于硬質陽極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗水平可達2000小時以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性，耐500V以上的高壓沖擊，且有效防止電偶腐蝕；氧化膜還具有良好的隔熱特性，是鋁合金活塞的首選。

氧化膜表面有很多微孔，多為盲孔，表面組織形貌見圖1,2。該組織形貌，非常有利于后續涂裝，它能使有機涂層深入氧化膜的微孔中形成“拋錨效應”，大大提高了有機涂層的結合力。

微弧氧化處理工藝簡單，流程短。不需要對工件進行復雜的前處理，氧化過程無污染。電解液成分以食品添加劑為主，無毒無害且長效，生產過程中無需更換。清洗廢水可作為電解液補加水，處理過程基本無廢水排放。